约瑟夫森结AlOx-Al隧道势垒的实验研究 |
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作者姓名: | 刘必荣 H.MANTLE |
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作者单位: | (1)安徽大学物理系; (2)瑞士邮电科学院 |
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摘 要: | 通过X光电子能谱(XPS)、阳极氧化电压谱(AVS)和Fiske台阶电压的测量,研究了约瑟夫森结中AlOx-Al隧道势垒.发现结的隧道势垒最佳沉积Al层厚度为7nm,Al上形成AlOx厚度只取决于氧化条件,与沉积Al厚无关,势垒Al氧化物可能含有一个像AlOOH态的OH基团.同时,估算了剩余Al厚度,证实了结中Al/Nb间在4.2K时,由常态Al而产生临近效应的存在
关键词:
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关 键 词: | 约瑟夫森结 隧道势垒 半导体量子论 |
收稿时间: | 1995-09-27 |
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