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ECR源Cl2等离子体蚀刻Si引起的损伤特性
引用本文:常乐.ECR源Cl2等离子体蚀刻Si引起的损伤特性[J].等离子体应用技术快报,1995(4):16-17.
作者姓名:常乐
摘    要:

关 键 词:  电子自旋共振  等离子体蚀刻  硅集成电路
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