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CCl2F2／H2等离子体用于GaAs的反应离子蚀刻

引用本文：	王惠三.CCl2F2／H2等离子体用于GaAs的反应离子蚀刻[J].等离子体应用技术快报,1995(1):4-5.

作者姓名：	王惠三

摘要：
关键词：	砷化镓等离子体离子蚀刻
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