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CCl2F2/H2等离子体用于GaAs的反应离子蚀刻
引用本文:王惠三.CCl2F2/H2等离子体用于GaAs的反应离子蚀刻[J].等离子体应用技术快报,1995(1):4-5.
作者姓名:王惠三
摘    要:

关 键 词:砷化镓  等离子体  离子蚀刻
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