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| 有埋层图形外延片表面HCI腐蚀量的控制 | |
| 引用本文： | 张国仁,孙伯祥,陈郁文,肖建农.有埋层图形外延片表面HCI腐蚀量的控制[J].微电子技术,1995(4). |
| 作者姓名： | 张国仁 孙伯祥 陈郁文 肖建农 |
| 作者单位： | 中国华晶电子集团公司材料工厂!无锡，214061 |
| 摘 要： | 本文经大量实验和多年工作实践，得到了做有理层图形外延片HCl腐蚀的浓度，HCl腐蚀量的数据。对不同理层图形外延片HCl腐蚀的一些规律现象进行理论分析。最后文章也阐述了有理层图形外延片表面HCl腐蚀不利一面。 |
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