| 95;Ar+5;H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响 |
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| 引用本文： | 熊芬,姜思宇,吴隽,耿仁杰,郭才胜,祝柏林,姚亚刚,刘静.95;Ar+5;H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响[J].人工晶体学报,2019,48(12):2186-2193. |
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| 作者姓名： | 熊芬 姜思宇 吴隽 耿仁杰 郭才胜 祝柏林 姚亚刚 刘静 |
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| 作者单位： | 武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,材料与冶金学院,武汉 430081;武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,材料与冶金学院,武汉 430081;中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州 215123;中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州,215123 |
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| 基金项目： | 中国科学院苏州纳米技术与仿生研究所纳米器件与应用重点实验室项目(15QT02);国家自然科学基金重点项目(51522211) |
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| 摘 要： | 采用射频(RF)磁控溅射在室温下连续逐层沉积,然后在95;Ar+5;H2混合气氛中进行500 ℃低温退火制备了Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜,采用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对其结构、组成和表面形貌进行了研究.结果表明:所制备的纳米膜均匀连续,界面紧密巨清洁.95;Ar+5;H2混合气氛中退火能强烈影响顶部MoS2层的形貌并有效去除MoS2中的杂质氧改善其结晶性、稳定性和结构完整性;顶部MoS2层在沉积态时呈细小颗粒状,退火后呈片层状和颗粒状混合形态,特别是引入BN 层后促进了其向更大更薄的片状转变,巨MoS2薄膜由块状变成类层状结构.另外,电性能表征显示Ag/MoS2具有良好的欧姆接触巨电阻率低,引入BN层使得Ag与BN以及BN与MoS2的界面处产生肖特基势垒从而使Ag/BN/MoS2具有整流特性.
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| 关 键 词： | Ag/MoS2 Ag/BN/MoS2 连续逐层沉积 95 Ar+5 H2退火 |
Effect of Annealing in 95;Ar+5;H2 on the Morphology and Structure of Ag/MoS2 and Ag/BN/MoS2 Thin Films |
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| XIONG Fen,JIANG Si-yu,WU Jun,GENG Ren-jie,GUO Cai-sheng,ZHU Bai-lin,YAO Ya-gang,LIU Jing.Effect of Annealing in 95;Ar+5;H2 on the Morphology and Structure of Ag/MoS2 and Ag/BN/MoS2 Thin Films[J].Journal of Synthetic Crystals,2019,48(12):2186-2193. |
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| Authors: | XIONG Fen JIANG Si-yu WU Jun GENG Ren-jie GUO Cai-sheng ZHU Bai-lin YAO Ya-gang LIU Jing |
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