| 退火时间对TiO2薄膜光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 孟凡明,曹春斌,孙兆奇. 退火时间对TiO2薄膜光学性能的影响[J]. 压电与声光, 2008, 30(5) |
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| 作者姓名： | 孟凡明 曹春斌 孙兆奇 |
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| 作者单位： | 1. 安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;安徽大学,光电信息获取与控制教育部重点实验室,安徽,合肥,230039
2. 安徽农业大学,理学院,安徽,合肥,230036 |
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| 基金项目： | 安徽省教育厅科研项目，国家自然科学基金，教育部高等学校博士学科点专项科研基金，安徽省信息材料与器件重点实验室(安徽大学)开放基金，安徽大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 研究退火时间对薄膜相结构、形貌及光学性能的影响。采用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英玻璃片上负载TiO2薄膜,通过X-射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对其进行表征。结果表明,在相同的退火温度下,与退火0.5 h相比,退火1 h的薄膜中锐钛矿相TiO2减少,金红石相TiO2增多,对可见光透射率有所减小,1 000℃以上退火时,透射率减小更明显。与退火1 h相比,退火0.5 h薄膜晶粒较小,明显呈纳米团簇状,薄膜表面粗糙度增大。
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 射频磁控溅射 退火 锐钛矿 金红石 |
Influence of Annealing Time on the Optical Properties of TiO2 Thin Films |
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| MENG Fan-ming,CAO Chun-bin,SUN Zhao-qi. Influence of Annealing Time on the Optical Properties of TiO2 Thin Films[J]. Piezoelectrics & Acoustooptics, 2008, 30(5) |
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| Authors: | MENG Fan-ming CAO Chun-bin SUN Zhao-qi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiO2 thin films RF magnetron sputtering anneal anatase rutile |
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