| 光纤的大长度轴向侧面抛磨实验及理论分析 |
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| 引用本文： | 魏环,裴丽,赵瑞峰,姜彬.光纤的大长度轴向侧面抛磨实验及理论分析[J].光电技术应用,2008,23(4). |
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| 作者姓名： | 魏环 裴丽 赵瑞峰 姜彬 |
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| 作者单位： | 北京交通大学全光网与现代通信网教育部重点实验室,光波技术研究所,北京,100044 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)，北京市自然科学基金，北京交通大学校科研和教改项目，教育部跨世纪优秀人才培养计划 |
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| 摘 要： | 在光器件的制作中,应用接近纤芯内部或附近传播的光场,常以光纤的轴向侧面抛磨为实现方法.目前小长度的光纤研磨技术已趋于成熟,但大长度的研磨仍为一技术难点.理论分析了光纤研磨的特性;实现了光纤的大长度研磨实验,并比较了实验结果与理论结果:二者变化规律基本相同;研磨精度可控,长度可选,最长可达十几厘米;在给定光纤参数下,得出光纤研磨的适宜深度范围为51.42～57.8 μm.
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| 关 键 词： | 轴向侧面抛磨 标量分析法 LΡ01模的传输常数 功率限制因子 |
Experiment and Theoretical Analysis of Long Fiber's Axial-Side Rubbing |
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| WEI Huan,PEI Li,ZHAO Rui-feng,JIANG Bin.Experiment and Theoretical Analysis of Long Fiber's Axial-Side Rubbing[J].Electro-Optic Technology Application,2008,23(4). |
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| Authors: | WEI Huan PEI Li ZHAO Rui-feng JIANG Bin |
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