| 脉冲激光沉积薄膜技术研究新进展 |
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| 引用本文： | 敖育红,胡少六,龙华,徐业斌,王又青.脉冲激光沉积薄膜技术研究新进展[J].激光技术,2003,27(5):453-456,459. |
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| 作者姓名： | 敖育红 胡少六 龙华 徐业斌 王又青 |
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| 作者单位： | 1.华中科技大学激光技术国家重点实验室, 武汉, 430074 |
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| 摘 要： | 脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广、最有希望的制膜技术。陈述了其原理、特点、研究方法,总结了超快脉冲激光、脉冲激光真空弧、双光束脉冲激光沉积等最新的PLD薄膜制备技术研究进展。
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| 关 键 词： | 超快脉冲激光沉积 双光束脉冲激光沉积 脉冲激光真空弧薄膜制备 薄膜技术 |
| 文章编号： | 1001-3806(2003)05-0453-04 |
| 收稿时间： | 2003/1/20 |
| 修稿时间： | 2003-03-22 |
Study on pulsed laser deposition technology |
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| Ao Yuhong,Hu Shaoliu,Long Hua,Xu Yebin,Wang Youqing.Study on pulsed laser deposition technology[J].Laser Technology,2003,27(5):453-456,459. |
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| Authors: | Ao Yuhong Hu Shaoliu Long Hua Xu Yebin Wang Youqing |
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| Abstract: | The processes of pulsed laser deposition(PLD) technology,one of the most attractive thin film preparation methods,are described. The properties are listed in contrast with other methods. The fundamental approaches and the latest appropriate developments in PLD with ultra fast pulsed laser,pulsed laser arc,and dual beam lasers are discussed in detail. |
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| Keywords: | ultra fast pulsed laser deposition dual beam lasers pulsed laser vacuum arc thin technology |
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