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6H-SiC高反压台面pn结二极管
引用本文:王姝睿,刘忠立,李晋闽,王良臣,徐萍.6H-SiC高反压台面pn结二极管[J].半导体学报,2001,22(4):507-510.
作者姓名:王姝睿  刘忠立  李晋闽  王良臣  徐萍
作者单位:中国科学院半导体研究所!北京100083
摘    要:在可商业获得的单晶 6 H- Si C晶片上 ,通过化学气相淀积 ,进行同质外延生长 ;并在此 6 H - Si C结构材料上 ,利用反应离子刻蚀和接触合金化技术 ,制作台面 pn结二极管 .详细测量并分析了器件的电学特性 ,测量结果表明此 6 H - Si C二极管在室温、空气介质中 ,- 10 V时 ,漏电流密度为 2 .4× 10 - 8A/cm2 ,在反向电压低于 6 0 0 V及接近30 0℃高温下都具有良好的整流特性 .

关 键 词:碳化硅    pn结二极管    6H-SiC
文章编号:0253-4177(2001)04-0507-04
修稿时间:2000年3月22日

Electrical Characterization of 6H-SiC pn Diodes
WANG Shu-rui,LIU Zhong-li,LI Jin-min,WANG Liang-chen and XU Ping.Electrical Characterization of 6H-SiC pn Diodes[J].Chinese Journal of Semiconductors,2001,22(4):507-510.
Authors:WANG Shu-rui  LIU Zhong-li  LI Jin-min  WANG Liang-chen and XU Ping
Abstract:
Keywords:silicon carbide  pn junction diode  6H-SiC  
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