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| 光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——(Ⅰ)光化学气相淀积氧化硅的工艺研究 | |
| 引用本文： | 汪师俊,蔡琪玉,沈天慧.光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——(Ⅰ)光化学气相淀积氧化硅的工艺研究[J].微电子学与计算机,1993(2). |
| 作者姓名： | 汪师俊 蔡琪玉 沈天慧 |
| 作者单位： | 上海交通大学，上海交通大学，上海交通大学 上海市 200030 高纯硅及硅烷国家重点实验室，上海市 200030 高纯硅及硅烷国家重点实验室，上海市 200030 高纯硅及硅烷国家重点实验室 |
| 摘 要： | 文章介绍制备光化学气相淀积氮化硅薄膜的原理、设备及实验结果。 |
| 关 键 词： | 光化学气相淀积 氮化硅 薄膜 |
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