| 基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法 |
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| 引用本文： | 石一磊,苏俊宏,杨利红,徐均琪.基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法[J].运筹学学报,2010,30(1):76-79. |
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| 作者姓名： | 石一磊 苏俊宏 杨利红 徐均琪 |
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| 作者单位： | 西安工业大学光电工程学院, 陕西西安710032 |
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| 摘 要： | 为解决薄膜厚度的高精度测量问题，提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法，利用该方法对一个实际SiO2薄膜样片进行测试，通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理，实现对薄膜样片厚度的精确测试。结果表明：该方法具有非接触和测量精度高等优点，所测薄膜厚度的峰谷值为0.162μm，均方根值为0.043μm，为薄膜工艺的进一步研究提供了检测方法上的技术保障。
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| 关 键 词： | 相位偏移干涉法 干涉图 薄膜 薄膜厚度测量 |
Measuring thin-film thickness with phase-shift interferometry |
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| SHI Yi-lei,SU Jun-hong,YANG Li-hong,XU Jun-qi.Measuring thin-film thickness with phase-shift interferometry[J].OR Transactions,2010,30(1):76-79. |
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| Authors: | SHI Yi-lei SU Jun-hong YANG Li-hong XU Jun-qi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | phase-shift interferometry interferogram thin-film measurement of thin-film thickness |
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