| 薄层电解池流动注射法测定铜 |
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| 引用本文： | 朱元保,黄杉生.薄层电解池流动注射法测定铜[J].高等学校化学学报,1989,10(5):554-556. |
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| 作者姓名： | 朱元保 黄杉生 |
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| 作者单位： | 湖南大学
(朱元保，黄杉生，刘慧言)，湘潭电力学校
(龙有前)，湖南大学(曾丽荪) |
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| 摘 要： | 薄层电解池做高压液相色谱鉴定器的报道较多。但不用分离装置的简单薄层电解池流动注射法国内似尚未见正式报道,国外报道也很少。Alexandra等曾以管状金电极流动注射安培法测定氯。我们分别以大面积银、铜、玻璃碳、铜面镀金为工作电极装配电解池,试验发现以玻璃碳为最佳。本文报道薄层电解池的结构及用薄层电解池流动注射法测定铜的试验条件及结果。
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| 关 键 词： | 铜 测定 薄层电解池 流动注射法 |
Thin-Layer Electrolytic Cell Determination of Copper by Flow Injection Method |
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| Zhu Yuanbao,Huang Shaosheng,Long Youqian,Liu Huiyan,Zeng Lisun.Thin-Layer Electrolytic Cell Determination of Copper by Flow Injection Method[J].Chemical Research In Chinese Universities,1989,10(5):554-556. |
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| Authors: | Zhu Yuanbao Huang Shaosheng Long Youqian Liu Huiyan Zeng Lisun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Thin-layer electrolytic cell Determination of copper Flow injection method |
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