| Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究 |
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| 引用本文： | 罗佳慧,李燕,杨成韬. Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究[J]. 光学学报, 2001, 21(6): 73-675 |
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| 作者姓名： | 罗佳慧 李燕 杨成韬 |
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| 作者单位： | 电子科技大学信息材料工程学院, |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射方法制备了一维二组元Cu/Ti周期超晶格金属薄膜 ,研究了基片温度、膜周期数、基片取向与紫外反射的关系。当基片加热温度为 470℃时 ,在硅 (10 0 )晶面上生长的 30层Cu/Ti膜 ,层间膜厚控制在1∶3、膜总厚度控制为 30 0nm时 ,所制备的超晶格薄膜在 5°入射角下对 2 0 0nm的紫外光 ,其反射率可高达 90 %。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 超晶格膜 紫外光 反射率 |
Strong UV Reflecting Characteristics of Cu/Ti Superlattic Films |
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| Luo Jiahui Li Yan Yang Chengtao. Strong UV Reflecting Characteristics of Cu/Ti Superlattic Films[J]. Acta Optica Sinica, 2001, 21(6): 73-675 |
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| Authors: | Luo Jiahui Li Yan Yang Chengtao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering Cu/Ti superlattice film UV-light reflectivity |
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