| 异质外延生长钙钛矿结构氧化物薄膜 |
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| 引用本文： | 熊光成,连贵君,康晋峰,孙云锋.异质外延生长钙钛矿结构氧化物薄膜[J].低温物理学报,1999,21(4):241-246. |
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| 作者姓名： | 熊光成 连贵君 康晋峰 孙云锋 |
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| 作者单位： | 北京大学物理系与介观物理国家重点实验室 |
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| 基金项目： | 国家超导中心863攻关项目 |
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| 摘 要： | 影响直接外延生长氧化物薄膜的因素有很多，最主要的是保证氧化物薄膜的正确成相和在单晶衬底上成核．直接外延生长时，衬底温度影响到薄膜的成相．衬底温度还影响薄膜的生长动力学，并因此影响薄膜的外延生长取向．由于薄膜是首先在衬底表面成核、成相并生长的，因此衬底材料晶格的影响是不容忽视的．衬底材料（或异质外延材料）与薄膜的相互作用是影响外延生长的最直接因素，而晶格常数失配会造成薄膜样品中存在应力并影响样品性质．利用脉冲激光淀积法，我们成功地外延生长了ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７超导薄膜、Ｓｒ０．５Ｂａ０．５ＴｉＯ３铁电介电薄膜、Ｌａ０．７Ｃａ０．３ＭｎＯ３铁磁巨磁电阻薄膜、Ｌａ０．５Ｓｒ０．５ＣｏＯ３导电薄膜等多种具有钙钛矿结构的氧化物功能薄膜．以这些钙钛矿结构氧化物薄膜的外延生长为例，本文讨论影响氧化物薄膜异质外延生长的因素
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| 关 键 词： | 薄膜 氧化物 异质外延生长 超导 钙钛矿结构 |
HERETO-EPITAXIAL GROWTH IN PEROVSKITE OXIDE THIN FILMS |
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| Xiong Guang-cheng,Lian Gui-jun,Kang Jin-feng,Sun Yung-feng.HERETO-EPITAXIAL GROWTH IN PEROVSKITE OXIDE THIN FILMS[J].Chinese Journal of Low Temperature Physics,1999,21(4):241-246. |
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| Authors: | Xiong Guang-cheng Lian Gui-jun Kang Jin-feng Sun Yung-feng |
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