| 退火处理对DKDP晶体光学均匀性的影响研究 |
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| 引用本文： | 常新安,涂衡,臧和贵,艾琳.退火处理对DKDP晶体光学均匀性的影响研究[J].人工晶体学报,2006,35(3):532-535. |
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| 作者姓名： | 常新安 涂衡 臧和贵 艾琳 |
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| 作者单位： | 北京工业大学材料科学与工程学院,北京,100022 |
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| 基金项目： | 北京市自然科学基金资助项目(No.2032005)，北京市委组织部优秀人才专项培养资助项目 |
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| 摘 要： | 分别对不同生长速度的DKDP晶体进行了退火处理.结果表明,适当温度的退火处理能有效地提高晶体的光学均匀性,尤其是对快速生长的晶体质量提高更为显著.在实验温度范围内,退火温度越高,质量改善越明显.对退火机理进行了初步讨论.
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| 关 键 词： | DKDP晶体 热退火 光学均匀性 |
| 文章编号： | 1000-985X（2006）03-0532-04 |
| 收稿时间： | 01 5 2006 12:00AM |
| 修稿时间： | 2006-01-05 |
Study on Influence of Thermal Annealing on Optical Homogeneity of DKDP Crystal |
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| CHANG Xin-an,TU Heng,ZANG He-gui,AI Lin.Study on Influence of Thermal Annealing on Optical Homogeneity of DKDP Crystal[J].Journal of Synthetic Crystals,2006,35(3):532-535. |
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| Authors: | CHANG Xin-an TU Heng ZANG He-gui AI Lin |
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| Institution: | College of Materials Science and Engineering, Beijing University of Technology,Beijing 100022 ,China |
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| Abstract: | The influence of thermal annealing on DKDP crystals grown at different rates was studied.The results show that a thermal annealing at the proper temperature of experiments can significantly improve the optical homogeneity of the crystals,especially for the crystal grown at a rapid speed.And the higher the annealing temperature is,the better the optical homogeneity is in the temperature range of the experiments.The mechanism of annealing was discussed briefly. |
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| Keywords: | DKDP crystal thermal annealing optical homogeneity |
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