首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

在Si-Ge晶体外延生长中的RHEED花样研究
引用本文:张冲,叶辉,张磊,皇甫幼睿,刘旭. 在Si-Ge晶体外延生长中的RHEED花样研究[J]. 物理学报, 2009, 58(11): 7765-7772
作者姓名:张冲  叶辉  张磊  皇甫幼睿  刘旭
作者单位:浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州 310027
基金项目:浙江省自然科学基金(批准号:Y407109)资助的课题.
摘    要:在晶体衍射理论基础上,利用运动学理论解释了反射式高能电子衍射(reflection high energy electron diffraction, RHEED)在Si-Ge晶体外延生长过程中不同阶段出现的花样.尤其研究了晶体岛状生长之后出现的RHHED透射式衍射花样,并给出了相应的解释.解释了硅锗外延生长过程中的多晶环图案和孪晶衍射图案的含义,并给出各个生长阶段演化的工艺条件.关键词:硅锗外延生长反射式高能电子衍射表面重构透射式衍射花样

关 键 词:硅锗外延生长  反射式高能电子衍射  表面重构  透射式衍射花样
收稿时间:2009-02-18

A study of RHEED pattern from the epitaxial growth of Si-Ge crystal
Zhang Chong,Ye Hui,Zhang Lei,Huang-Fu You-Rui and Liu Xu. A study of RHEED pattern from the epitaxial growth of Si-Ge crystal[J]. Acta Physica Sinica, 2009, 58(11): 7765-7772
Authors:Zhang Chong  Ye Hui  Zhang Lei  Huang-Fu You-Rui  Liu Xu
Abstract:The patterns of Reflection high energy electron diffraction (RHEED) from the epitaxial growth of Si-Ge crystal are interpreted basing on the kinetieal diffraction theory of crystal. The transmission pattern is studied and interpreted, which relates to the rough surface after crystal growth. The RHEED patterns of polyerystalline tings and twin crystal and their evolvements are analyzed with respee to the epitaxial growth conditions.
Keywords:Si-Ge epitaxial growth   RHEED   surface reconstruction   transmission pattern
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《物理学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《物理学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号