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Kinetics and Thermodynamics of Surface Steps on Semiconductors
Authors:Toshio Ogino  Hiroki Hibino  Yoshikazu Homma
Affiliation:NTT Basic Research Laboratories, Atsugi-shi, Kanagawa 243-0198, Japan
Abstract:
Keywords:silicon  surface  atomic step  (111) surface  nanofabrication  step bunching  step-free surface.
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