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| 高频等离子体沉积技术的研究近况 | |
| 引用本文： | 倪秋芽,童建忠.高频等离子体沉积技术的研究近况[J].物理,1987(10). |
| 作者姓名： | 倪秋芽 童建忠 |
| 作者单位： | 中国科学院电工研究所 (倪秋芽)，中国科学院电工研究所(童建忠) |
| 摘 要： | 高频等离子休沉积是高频放电等离子体化学气相沉积的简称,是近二十年来进展异常迅速的固体薄膜制备技术.在半导体工业中,这种技术已成为大规模集成电路干式生产工艺流程中的重要环节.自1973年以来,英国、美国、日本相继利用这种技术制成了氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜.如美国能量转换器件公司拥有能连续制造宽度为～30cm 的非晶硅薄膜太阳电池的大规模生产车间,电池效率达10.1±0.3%.日本大皈府立大学研制成功非晶硅感光鼓,并由京都陶瓷株式会社投入了批量生产.这样便确立了高频等离子体化学气相沉积技术在太阳电池、光电子材料领域的独特地位.… |
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