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杂志ISSN号
同步辐射X线光刻
作者姓名:
陈梦真
作者单位:
中科院微电子中心
摘 要:
X线光刻是未来亚微米应用的重要微光刻技术、近年来,同步辐射X线光源的应用是技术上一个重要发展,本文叙述了同步辐射X线光刻在微电子技术未来发展中的作用、现状及其基本技术问题。并介绍了我国同步辐射X线光刻的发展情况。
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