| 衬底温度对电子辅助增强化学气相沉积金刚石膜的影响 |
| |
| 引用本文： | 王志军,李红莲,董丽芳,李盼来,尚勇.衬底温度对电子辅助增强化学气相沉积金刚石膜的影响[J].人工晶体学报,2008,37(1):76-82. |
| |
| 作者姓名： | 王志军 李红莲 董丽芳 李盼来 尚勇 |
| |
| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学质量技术监督学院,保定,071002 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金
,
河北大学校内青年基金 |
| |
| 摘 要： | 本工作采用蒙特卡罗(Monte Carlo)方法,对以CH4/H2为源气体的电子助进化学气相沉积(EACVD)金刚石薄膜的气相动力学过程进行了模拟.提出了衬底温度的空间梯度变化模型,研究了衬底温度对EACVD气相过程中的电子群行为以及H2和CH4分解过程的影响.结果表明:电子平均温度随着衬底温度的升高而升高;当气压较低时,分解得到的成膜关键粒子H、CH3数量随衬底温度的增大而减少;而当气压较高时,H、CH3数目随衬底温度的增大而增大;衬底温度主要改变了衬底表面附近的化学反应动力学过程,从而对薄膜质量产生了决定性的影响.
|
| 关 键 词： | 蒙特卡罗模拟 化学气相沉积 气相过程 衬底温度 |
| 文章编号： | 1000-985X（2008）01-0076-07 |
| 收稿时间： | 2007-05-05 |
| 修稿时间： | 2007-08-20 |
Effect of Substrate Temperature on the Synthesis of Diamond Film by Electron-assisted Chemical Vapor Deposition |
| |
| WANG Zhi-jun,LI Hong-lian,DONG Li-fang,LI Pan-lai,SHANG Yong.Effect of Substrate Temperature on the Synthesis of Diamond Film by Electron-assisted Chemical Vapor Deposition[J].Journal of Synthetic Crystals,2008,37(1):76-82. |
| |
| Authors: | WANG Zhi-jun LI Hong-lian DONG Li-fang LI Pan-lai SHANG Yong |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Monte-Carlo simulation chemical vapor deposition gas phase process substrate temperature |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《人工晶体学报》下载免费的PDF全文 |
|
