Cl掺杂γ-CuI晶体生长及闪烁性能的研究 |
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作者姓名: | 张蕾 刘小林 郝书童 顾牡 李乾利 黄世明 张娟楠 |
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作者单位: | 同济大学物理科学与工程学院,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海 200092;上海大学材料科学与工程学院,上海,200444 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(11775160,11375129,11675121) |
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摘 要: | 采用溶剂蒸发技术,辅以氩保护气氛,成功获得厘米级氯掺杂γ-CuI透明单晶.研究了氯掺杂对晶体生长溶液的稳定性、晶体结构及发光性能的影响.通过引入氩气氛,掺氯生长液及晶体的氧化问题得到了极大改善.X射线激发发射光谱表明,γ-CuI:Cl晶体的超快近带边发射得到显著增强,光输出约为PbWO4晶体的89;,深能级发射强度也受到极大抑制.并且快成分的衰减时间达到亚纳秒量级.实验结果均表明γ-CuI:Cl单晶具有较好的结晶性和光学性能,有望应用于超高辐射检测和超快计数率成像领域.
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关 键 词: | γ-CuI单晶 氯掺杂 溶剂蒸发法 X射线激发发光 超快衰减时间, |
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