提升全息光栅掩模占空比均匀性的曝光系统 |
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作者姓名: | 许晨璐 赵宇暄 冒新宇 曾理江 |
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作者单位: | 1. 清华大学精密仪器系精密测试技术及仪器国家重点实验室;2. 北京至格科技有限公司 |
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基金项目: | 国家重点研发计划(2021YFB2802100); |
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摘 要: | 在基于衍射光栅光波导的增强现实近眼显示设备中,光栅的占空比均匀性对成像均匀性影响很大。提出一种提升全息光栅掩模占空比均匀性的罗艾镜曝光系统,该系统采用移动挡板和改变干涉场光强的方法,来补偿全息曝光时高斯光束光强不均匀导致的光栅掩模占空比不均匀。实验中使用该方法制备的光栅,其占空比的极差相比用传统罗艾镜曝光系统制作的光栅降低了66%以上;制成的衍射光波导片的纯色屏幕的均匀性至少提升30%。
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关 键 词: | 光栅 全息曝光 占空比 衍射光波导 成像均匀性 |
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