| 蓝色铬膜层的电沉积机理 |
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| 引用本文： | 葛福云 许书楷. 蓝色铬膜层的电沉积机理[J]. 应用化学, 1991, 8(1): 6-9 |
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| 作者姓名： | 葛福云 许书楷 |
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| 作者单位： | 厦门大学化学系，厦门大学化学系，厦门大学化学系 厦门 361005，厦门 361005，厦门 361005 |
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| 摘 要： | 本文通过对蓝色铬膜层的XPS分析及电化学方法研究了该膜层的沉积过程。结果表明,整个膜层可分为:120nm厚的交界层(主要成分是Cr和基底Ni),250nm厚的中间层(Cr_2O_3,Ct和CtSe,后者决定了膜层呈蓝色),以及100nm厚的表面层(吸附的Cr(Ⅵ)、Cr(Ⅲ),SeO_4~(2-)和Se),对电沉积历程和机理进行了探讨。
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| 关 键 词： | 蓝色铬膜层 阴极膜 XPS H_2SeO_4 CrO_3 CrSe |
| 收稿时间： | 1989-09-12 |
THE MECHANISM OF ELECTRODEPOSITION OF BLUE CHROMIUM FILM |
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| Ge Fuyun,Xu Shukai,Zhou Shaomin. THE MECHANISM OF ELECTRODEPOSITION OF BLUE CHROMIUM FILM[J]. Chinese Journal of Applied Chemistry, 1991, 8(1): 6-9 |
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| Authors: | Ge Fuyun Xu Shukai Zhou Shaomin |
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| Affiliation: | Ge Fuyun,Xu Shukai,Zhou Shaomin Department of Chemistrg,Xiamen University,Xiamen 361005 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | blue chromium film cathodic film XPS H_2SeO_4 CrO_3 CrSe |
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