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Nafion修饰金膜玻碳电极溶出伏安法测定痕量Se(Ⅳ)的研究
引用本文:汪振辉 张宏忠. Nafion修饰金膜玻碳电极溶出伏安法测定痕量Se(Ⅳ)的研究[J]. 理化检验(化学分册), 1997, 33(11): 494-497
作者姓名:汪振辉 张宏忠
作者单位:河南师范大学化学系,河南师范大学化学系,河南师范大学化学系 新乡 453002,新乡 453002,新乡 453002
基金项目:河南省自然科学基金资助课题
摘    要:提出了Nafion修饰膜玻碳电极测定痕量硒的新方法。在0.1mol.L^-1硫酸和0.01.L^-1硝酸钠的介质中,Se(Ⅳ)浓度在5.0*10^-10-2.5*10^-8mol.L^-1范围与二次导数峰电流呈良好线性关系,测定下限为5.0*10^-10mol.L^-1。

关 键 词:硒 修饰电极 溶出伏安法 Nafion 金膜玻碳电极

STUDY ON THE DETERMINATION OF TRACE SELENIUM BY STRIPPING VOLTAMMETRY WITH NAFION MODIFIED GOLD FILM GLASSY CARBON ELECTRODE
Wang Zhenhui,Zhang Hongzhong and Zhou Shouping. STUDY ON THE DETERMINATION OF TRACE SELENIUM BY STRIPPING VOLTAMMETRY WITH NAFION MODIFIED GOLD FILM GLASSY CARBON ELECTRODE[J]. Physical Testing and Chemical Analysis Part B:Chemical Analgsis, 1997, 33(11): 494-497
Authors:Wang Zhenhui  Zhang Hongzhong  Zhou Shouping
Abstract:
Keywords:Selenium Modified electrode Anodic stripping voltammetry
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