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同轴磁场对非平衡磁控溅射系统放电特性的影响
引用本文:牟宗信,李国卿,黄开玉. 同轴磁场对非平衡磁控溅射系统放电特性的影响[J]. 核聚变与等离子体物理, 2004, 24(2): 141-146
作者姓名:牟宗信  李国卿  黄开玉
作者单位:大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室,大连,116024;大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室,大连,116024;大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室,大连,116024
摘    要:采用激励电流可以调整的电磁线圈来激发非平衡磁场,调整约束磁场和放电空间等离子体状态。实验结果表明调整非平衡磁场显著影响系统的放电特性,使放电特性偏离常规的磁控溅射系统放电特性,增强了等离子体的引出效果。在Ar放电的条件下,详细研究了溅射系统的工作伏安特性随不同的工作气体、气压和溅射功率的变化规律。根据蔡尔得公式,讨论了非平衡磁场对于磁控溅射系统中放电特性的影响规律。

关 键 词:非平衡磁控溅射系统  薄膜  等离子体
文章编号:0254-6086(2004)02-0141-06

Study of the discharge characteristic of an unbalanced magnetron sputtering system with an axial solenoid
MU Zong-xin,LI Guo-qing,HUANG Kai-yu Electron Beams,Dalian University of Technology,Dalian ). Study of the discharge characteristic of an unbalanced magnetron sputtering system with an axial solenoid[J]. Nuclear Fusion and Plasma Physics, 2004, 24(2): 141-146
Authors:MU Zong-xin  LI Guo-qing  HUANG Kai-yu Electron Beams  Dalian University of Technology  Dalian )
Affiliation:MU Zong-xin,LI Guo-qing,HUANG Kai-yu Electron Beams,Dalian University of Technology,Dalian 116024)
Abstract:
Keywords:Unbalanced magnetron sputtering system  Film  Plasma
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