| PECVD技术制备多波段渐变减反膜 |
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| 引用本文： | 黄发彬,杭凌侠,龚勋,张笑.PECVD技术制备多波段渐变减反膜[J].光学技术,2016(3):248-251. |
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| 作者姓名： | 黄发彬 杭凌侠 龚勋 张笑 |
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| 作者单位： | 西安工业大学,西安710021;陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安710021 |
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| 摘 要： | 介绍了利用傅里叶变化法设计多波段渐变减反膜的原理和方法,研究了采用该方法设计多波段减反膜时Q函数的优选流程,给出了最优Q函数。设计优化得到了在350~5000nm波段范围平均透过率大于90%的多层渐变减反膜系结构,并采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术完成了样片的制备。实验结果表明,镀制的样片在350~5000nm波段范围的平均透过率为90.55%,满足光谱特性的要求。
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| 关 键 词： | PECVD 渐变折射率 多波段 减反膜 |
Preparation of multi-band antireflection films with gradient refractive index by PECVD technology |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PECVD gradient refractive index multi-band antireflection films |
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