气体离化团束技术

由数个至数千个气体原子构成且被电离为单电荷的气体离化团束与表面相互作用产生新的效应、涉及新的机理并显示许多新的应用。例如非常浅的浅层注入（Ｓｉ注入深度小于０．１μｍ）、极高的溅射产额（比单体离子高两个数量级）、侧向溅射效应、原子量级的表面加工（平均表面粗糙度小于１ｎｍ）、低基片温度下形成高质量薄膜等。