| 纳米铜修饰电极对多巴胺和抗坏血酸的同时测定 |
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| 引用本文： | 张英,任旺.纳米铜修饰电极对多巴胺和抗坏血酸的同时测定[J].化学研究与应用,2008,20(4):382-385. |
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| 作者姓名： | 张英 任旺 |
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| 作者单位： | 四川理工学院化学系,四川,自贡,643000 |
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| 摘 要： | 用电沉积方法制备了纳米铜修饰电极并将其用于混合溶液中多巴胺(DA)和抗坏血酸的同时测定。在优化的实验条件下,修饰电极对多巴胺和抗坏血酸具有良好的电催化响应,多巴胺的峰电流与浓度在8.0×10-7mol/L~1.0×10-4mol/L范围内成很好的线性关系,抗坏血酸的氧化峰电流与其浓度在8.0×10-6mol/L~1.0×10-3mol/L的范围成良好的线性关系。该修饰电极制备简单、稳定性好,用于样品检测,效果良好。
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| 关 键 词： | 纳米铜 多巴胺 抗坏血酸 电沉积 |
| 文章编号： | 1004-1656(2008)04-0382-04 |
| 修稿时间： | 2007年8月28日 |
Simultaneous detection of dopamine and ascorbic acid at gold electrode modified with nano-copper |
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| ZHANG Ying,REN Wang.Simultaneous detection of dopamine and ascorbic acid at gold electrode modified with nano-copper[J].Chemical Research and Application,2008,20(4):382-385. |
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| Authors: | ZHANG Ying REN Wang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | nano-copper dopamine ascorbic acid electrodeposition |
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