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| 表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析 | |
| 作者姓名： | 董启明 郭小伟 |
| 作者单位： | 电子科技大学 光电信息学院, 成都 610064 |
| 基金项目： | The National Natural Science Foundation of China (No. 60906052) |
| 摘 要： | 表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431 nm时,选择40 nm厚的银层,曝光深度可达200 nm,条纹周期为110 nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持. |
| 关 键 词： | 干涉光刻 表面等离子体激元 克莱舒曼结构 |
| 收稿时间： | 2011-12-05 |
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