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高温超导薄膜生长机理初探
引用本文:赵新杰,季鲁,陈恩,左涛,周铁戈,陈思,阎少林,方兰,左旭.高温超导薄膜生长机理初探[J].低温物理学报,2005,27(Z1):629-634.
作者姓名:赵新杰  季鲁  陈恩  左涛  周铁戈  陈思  阎少林  方兰  左旭
作者单位:南开大学电子科学系,天津,300071
摘    要:在3×10×0.5mm3的LaAlO3(001)基片上,利用直流磁控溅射生长一层厚度约为700nm的非晶态Tl2Ba2CaCu2Ox先驱薄膜.将先驱薄膜与热处理过的Tl2Ba2Ca2Cu3Oy块材(作为Tl源)一起在720~860℃温度下退火.为了研究薄膜的初期成核情况,退火时间一般为5分钟.利用XRD和完全抗磁性测试方法对样品的成相情况进行研究,结果显示,在薄膜生长的初期,较高的退火温度可以获得较大尺寸的初期生长核,但是退火温度达到860℃时,初期成核的晶粒尺寸变小.

关 键 词:高温超导薄膜  生长机理  热处理
修稿时间:2005年3月25日

GROWTH MECHANISM OF TL-2212 HIGH TEMPERATURE SUPERCONDUCTING FILMS
ZHAO XIN-JIE,JI LU,CHEN EN,ZUO TAO,ZHOU TIE-GE,CHEN SI,YAN SHAO-LIN,FANG LAN,ZUO XU.GROWTH MECHANISM OF TL-2212 HIGH TEMPERATURE SUPERCONDUCTING FILMS[J].Chinese Journal of Low Temperature Physics,2005,27(Z1):629-634.
Authors:ZHAO XIN-JIE  JI LU  CHEN EN  ZUO TAO  ZHOU TIE-GE  CHEN SI  YAN SHAO-LIN  FANG LAN  ZUO XU
Abstract:
Keywords:Tl-2212
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