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分子束外延生长p型ZnTe:Sb-ZnSe应变层超晶格材料
作者姓名:徐梁  陈云良  沈玉华  王海龙
作者单位:中国科学院上海光机所 上海 201800
摘    要:我们以掺Fe的高阻InP作衬底材料,在国产MBE-Ⅲ型设备上,采用调制掺杂技术,成功地生长出了p型ZnTe:Sb-ZnSe应变层超晶格材料。室温霍耳效应测量表明:载流子浓度为10~(14)/cm~3量级,迁移率为250cm~2/V·s。俄歇谱分析清楚表明,仅在ZnTe层中Sb原子存在,且界面比较分明,调制掺杂已获初步成功。

关 键 词:分子束外延  超晶格  半导体掺杂
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