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采用BCB平整技术的高速850nm垂直面发射激光器(英文)
作者姓名:何晓颖  董建  胡帅  何艳  吕本顺  栾信信  李冲  胡安琪  胡宗海  郭霞
作者单位:北京邮电大学电子工程学院信息光子学与光通信国家重点实验室;北京工业大学信息学部
摘    要:垂直腔面发射激光器因其具有低阈值、低功耗、可实现高速调制等优势,广泛地应用于光通信和光互连等领域。寄生电容是影响激光器的调制带宽的主要因素之一。本文通过采用低k值的苯并环丁烯(BCB)平整技术有效地降低了垂直腔面发射激光器的寄生电容。详细研究了BCB平整技术的最优工艺参数,为未来高速垂直腔面发射激光器的制造技术提供参考。低k值BCB平整垂直腔面发射激光器在7μm氧化孔径下3 d B小信号调制带宽可达15.2 GHz。

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