掠入射,全反射及其在X射线荧光分析中的应用 |
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引用本文: | 刘亚雯.掠入射,全反射及其在X射线荧光分析中的应用[J].物理,1993,22(10):614-618. |
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作者姓名: | 刘亚雯 |
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作者单位: | 中国科学院高能物理研究所 北京100080 |
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摘 要: | 掠入射、全反射技术应用于化学的微量及超微量元素分析和表面分析,给X射线荧光分析技术带来了突存性的发展。目前,利用全反射X荧光分析技术对微量元素进行分析,其检测限已达到pg级,硅片表层杂质分析的检测限达到10^9个原子/cm^2。文章介绍了该技术的基本理论和特点、近年来国内外发展情况及应用的例子。
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关 键 词: | 掠入射 全反射 X辐射 荧光分析 |
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