|
|||||
|
|
| 10 μm间距红外探测器铟柱制备研究 | |
| 引用本文： | 马涛,谢珩,刘明,宁提,谭振.10 μm间距红外探测器铟柱制备研究[J].红外,2022,43(1):6-10. |
| 作者姓名： | 马涛 谢珩 刘明 宁提 谭振 |
| 作者单位： | 华北光电技术研究所,北京100015 |
| 摘 要： | 小间距红外探测器目前已成为红外探测器技术发展的一个重要方向.用于连接探测器芯片与读出电路芯片的铟柱的制备工艺水平成为影响器件性能的一个重要因素.介绍了一种10μm间距红外探测器铟柱的制备工艺.新工艺采用多次铟柱生长结合离子刻蚀的手段,最终剥离和制备出高度为8 μm、非均匀性小于5％的10μm间距红外探测器读出电路铟柱,... |
| 关 键 词： | 铟柱 离子刻蚀 10 μm间距 红外探测器 |
| 收稿时间： | 2021/8/18 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2021/9/8 0:00:00 |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《红外》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《红外》下载免费的PDF全文 | |