有色金属工业中的ICP发射光谱分析 |
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引用本文: | 保田正明,钱勇之.有色金属工业中的ICP发射光谱分析[J].分析试验室,1982(3). |
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作者姓名: | 保田正明 钱勇之 |
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摘 要: | 一、铝及其合金的分析表1列举的是日本工业标准(JIS)中与铝有关的发射光谱和原子吸收分析法。发射光谱分析法在 JIS 中只有金属电极法,今后从实用方面出发要进一步考虑溶液法的利用,此时,应考虑包含不宜用原子吸收法测定的Si、Ti、Sn、V 等10元素以上的同时测定,一般而言,有色金属材料的分析,由于是从纯金属中痕量或微量杂质到合金中极高含量的成分的测定,浓度范围非常广,在这一点上,比原子吸收法定量范围更广的发射光谱法是有利的。而且,一般不需要像原子吸收法测定镁时添加锶那样加入干扰抑制剂。铝试样的标准处理法是称取0.25~0.50克试样,用盐酸或盐酸和过氧化氢分解,制成100毫升溶液。标准溶液也含有同量的铝。表2列出了分析元素的测定下限(检出限×5)随溶液中铝浓度变化的情况。As、Au、
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