氧化石墨烯/二氧化硅纳米复合材料的等离子体法制备及其结构研究

本文通过大气压滑动弧等离子体高效修饰改性了氧化石墨烯(GO),制备GO/SiO_2纳米复合材料。GO/SiO_2的整体形态及SiO_2沉积物中的颗粒粒径与分布可分别通过反应物中正硅酸乙酯(TEOS)的使用量以及等离子体放电功率进行控制。于0.03mg TEOS/1mg GO,输入电压为290v的条件下,制备得到了SiO_2颗粒(约119nm)呈阵列规整排布于GO表面的GO/SiO_2样品。由于该处理方法具有连续处理的特点,所以在纳米粒子改性效率上相对于传统表面化学改性有很大的提高。除了本文提到的GO粒子以及TEOS前驱体,该方法也适用于其他纳米粒子,且能在其表面实现包括有机、无机等多种表面修饰结构的制备。