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| 固相多肽合成中Dmab保护基的脱除研究 | |
| 作者姓名： | 时华曜 范崇旭 代先东 刘尚义 曹瑛 |
| 作者单位： | 军事科学院防化研究院 |
| 摘 要： | 在固相多肽合成中,Dmab作为羧基保护基具有脱保护条件温和、步骤简便、选择性高的特点,但有时脱保护效率并不稳定.为此,基于Fmoc/t Bu/Dmab三维正交保护策略,利用固相多肽合成技术设计并合成了4个肽树脂,对固相多肽合成中Glu和Asp主链和侧链羧基的Dmab保护基脱除规律进行了研究.结果显示,树脂上α-ODmab的脱保护快速、完全,β-ODmab和γ-ODmab脱保护反应较慢,可以检测到相应的中间产物(4-氨基苄酯肽),推测脱保护效率由快到慢依次为α-ODmabβ-ODmabγ-ODmab.该结果表明Dmab作为α-COOH保护基具有较高的应用价值,但用于β-COOH和γ-COOH保护时,其脱保护条件尚不成熟. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |