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| 制膜技术与装置 | |
| 摘 要： | TB43 2004064364 离子束溅射沉积Ta_2O_5光学薄膜的实验研究=Experimental study of ion beam sputtering deposition of Ta_2O_5 optical thin film刊,中]/刘洪祥(中科院光电技术研究所.四川,成都(610209)),熊胜明…∥光电工程.—2004,31(3).—41-43,55 根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta_2O_5薄膜光学特性的 |
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