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GaAs/AlGaAs HBT器件的S_2Cl_2钝化
引用本文:
曹先安,陈溪滢,李喆深,苏润洲,丁训民,侯晓远,钱峰,姚晓峨,陈效建.GaAs/AlGaAs HBT器件的S_2Cl_2钝化[J].半导体学报,1997,18(1):76-80.
作者姓名:
曹先安
陈溪滢
李喆深
苏润洲
丁训民
侯晓远
钱峰
姚晓峨
陈效建
作者单位:
[1]复旦大学应用表面物理国家重点实验室 [2]南京电子器件研究所
摘 要:
本文采用了一种新的硫钝化方法处理GaAs/AlGaAs异质结台面型晶体管,大大改善了它的直流特性.并通过对其低温性能的研究和钝化过程的实时观测,证明了S2Cl2溶液能十分有效地改善GaAs的表面性质,从而降低了表面复合对器件性能的影响.这种钝化方法有可能发展成为GaAs器件制造中的一种实用钝化工艺.
关 键 词:
硫钝化
砷化镓
HBT
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