首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

稀释气体Ar对金刚石薄膜沉积质量的影响
引用本文:张伟,赵业权,高军. 稀释气体Ar对金刚石薄膜沉积质量的影响[J]. 人工晶体学报, 1999, 28(4): 364-367
作者姓名:张伟  赵业权  高军
作者单位:哈尔滨工业大学航天学院,哈尔滨,150001;中国空间技术研究院508所,北京,100076
摘    要:本文探讨了在燃烧焰法沉积金刚石薄膜过程中,稀释气体Ar对沉积质量的影响.发现在成膜过程中适当量的Ar起到增大内焰体积、降低沉积速率和提高晶型质量的作用.文中分析了其原因,并实现了利用Ar来控制高质量金刚石薄膜的生长.

关 键 词:燃烧焰法  金刚石薄膜  稀释气体,

Effect of Dilute Ar Gas on CVD Diamond Films Quality
Zhang Wei,Zhao Yequan,Gao Jun. Effect of Dilute Ar Gas on CVD Diamond Films Quality[J]. Journal of Synthetic Crystals, 1999, 28(4): 364-367
Authors:Zhang Wei  Zhao Yequan  Gao Jun
Abstract:
Keywords:
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号