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InAs/GaAs系列量子点研究
引用本文:王建峰,商耀辉,武一宾,牛晨亮,卜夏正.InAs/GaAs系列量子点研究[J].半导体情报,2009,46(7):410-413.
作者姓名:王建峰  商耀辉  武一宾  牛晨亮  卜夏正
作者单位:中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051
摘    要:为了获得波长长、均匀性好和发光效率高的量子点,采用分子束外延(MBE)技术和S-K应变自组装模式,在GaAs(100)衬底上研究生长了三种InAs量子点。采用MBE配备的RHEED确定了工艺参数:As压维持在1.33×10^-5Pa;InAs量子点和In0.2Ga0.8As的生长温度为500℃;565℃生长50nmGaAs覆盖层。生长了垂直耦合量子点(InAs1.8ML/GaAs5nm/InAs1.8ML)、阱内量子点(In0.2Ga0.8As5nm/InAs2.4ML/In0.2Ga0.8As5nm)和柱状岛量子点(InAs分别生长1.9、1.7、1.5ML,停顿20s后,生长间隔层GaAs2nm)。测得对应的室温光致发光(PL)谱峰值波长分别为1.038、1.201、1.087μm,半峰宽为119.6、128.0、72.2nm、相对发光强度为0.034、0.153、0.29。根据PL谱的峰位、半峰宽和相对发光强与量子点波长、均匀性和发光效率的对应关系,可知量子点波长有不同程度的增加、均匀性越来越好、发光效率显著增强。

关 键 词:自组装量子点  垂直耦合量子点  阱内量子点  柱状岛量子点  S-K模式  分子束外延  光致发光谱
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