| 金属诱导低温制备多晶硅薄膜工艺新进展 |
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| 引用本文： | 杨奕凡,李亚莉,宋化雨,郝会颖,邢杰,董敬敬. 金属诱导低温制备多晶硅薄膜工艺新进展[J]. 光谱实验室, 2013, 30(5) |
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| 作者姓名： | 杨奕凡 李亚莉 宋化雨 郝会颖 邢杰 董敬敬 |
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| 作者单位： | 1. 中国地质大学(北京)数理学院 北京市海淀区学院路29号 100083;中国地质大学(北京)材料科学与工程学院 北京市海淀区学院路29号 100083
2. 中国地质大学(北京)数理学院 北京市海淀区学院路29号 100083 |
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| 基金项目： | 中国地质大学(北京)大学生A类创新实验项目，中央高校基本科研业务费项目 |
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| 摘 要： | 多晶硅薄膜由于兼具稳定性、高光敏性、便于大面积沉积等优势成为目前光伏领域的研究热点.本文综述了近几年金属诱导非晶硅薄膜晶化的新工艺,介绍了各种工艺条件对多晶硅薄膜材料的结构、金属含量的调控规律.最后展望了未来的发展趋势.
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| 关 键 词： | 金属诱导晶化 非晶硅 多晶硅薄膜 |
New Progress of Low-Temperature Metal-Induced Crystallized Polycrystalline Silicon Thin-Film |
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| YANG Yi-Fan , LI Ya-Li , SONG Hua-Yu , HAO Hui-Ying , XING Jie , DONG Jing-Jing. New Progress of Low-Temperature Metal-Induced Crystallized Polycrystalline Silicon Thin-Film[J]. Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory, 2013, 30(5) |
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| Authors: | YANG Yi-Fan LI Ya-Li SONG Hua-Yu HAO Hui-Ying XING Jie DONG Jing-Jing |
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