| 表面预处理对氧化锌薄膜质量的影响 |
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| 引用本文： | 闫小龙,刘大力,石增良,董鑫,高忠民,杜国同. 表面预处理对氧化锌薄膜质量的影响[J]. 发光学报, 2005, 26(6): 777-780 |
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| 作者姓名： | 闫小龙 刘大力 石增良 董鑫 高忠民 杜国同 |
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| 作者单位： | 吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子学国家重点实验室,吉林,长春,130012;吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子学国家重点实验室,吉林,长春,130012;吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子学国家重点实验室,吉林,长春,130012;吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子学国家重点实验室,吉林,长春,130012;吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子学国家重点实验室,吉林,长春,130012;吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子学国家重点实验室,吉林,长春,130012 |
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| 摘 要： | 用MOCVD方法在c面蓝宝石衬底上生长ZnO薄膜。生长前衬底表面进行预处理，观察不同表面预处理对ZnO薄膜质量的影响。测量氧化锌的XRD谱，观察表面预处理后对氧化锌薄膜结晶质量的影响。室温下用325nm的He-cd激光器作为激发源测量ZnO薄膜的紫外发光谱，观察表面处理后对ZnO薄膜发光特性的影响。用HL5500 Hall System分别对ZnO薄膜的电学特性进行了测试。得到了ZnO薄膜的电阻率和霍尔迁移率，并得到氧气气氛处理后电阻率变小，霍尔迁移率变大；氮气气氛射频处理后电阻率变大，霍尔迁移率变小的结果。
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 金属有机化学气相沉积 表面预处理 |
| 文章编号： | 1000-7032（2005）06-0777-04 |
| 收稿时间： | 2004-08-25 |
| 修稿时间： | 2004-11-24 |
Effects of Surface Pretreatment on ZnO Thin Films Quality |
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| YAN Xiao-long,LIU Da-li,SHI Zeng-liang,DONG Xin,GAO Zhong-min,DU Guo-tong. Effects of Surface Pretreatment on ZnO Thin Films Quality[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2005, 26(6): 777-780 |
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| Authors: | YAN Xiao-long LIU Da-li SHI Zeng-liang DONG Xin GAO Zhong-min DU Guo-tong |
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| Affiliation: | State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics, College of Electronic Science and Engineering, Jilin Uni~rsity , Changchun 130012, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO thin film MOCVD pretreatment |
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