| 纳米TiOx光学薄膜的制备及性能分析 |
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| 引用本文： | 王鹤,杨宏. 纳米TiOx光学薄膜的制备及性能分析[J]. 应用光学, 2001, 22(5): 43-45 |
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| 作者姓名： | 王鹤 杨宏 |
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| 作者单位： | 西安交通大学理学院陕西西安 710049 |
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| 摘 要： | 报道用常压化学汽相沉积（APCVD）工艺制备TiOx纳米光学薄膜的研究结果，分析衬底温度对薄膜结构及折射率的影响，讨论在抛光硅片及绒面硅片上制备的TiOx薄膜光学减反射特性，并优化了工艺条件。
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| 关 键 词： | 纳米 TiOx 常压化学汽相沉积 制备 性能分析 光学薄膜 减反射特性 APCVD |
| 文章编号： | 1002-2082(2001)05-0043-03 |
| 收稿时间： | 2001-04-18 |
PREPARATION AND CHARACTERISTIC OF NANOMETER TiOx OPTICAL THIN FILM |
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| WANG He,YANG Hong. PREPARATION AND CHARACTERISTIC OF NANOMETER TiOx OPTICAL THIN FILM[J]. Journal of Applied Optics, 2001, 22(5): 43-45 |
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| Authors: | WANG He YANG Hong |
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| Abstract: | This paper reports some investigation results of nanometer TiOx optical thin film prepared by atmospheric pressure chemical vapor deposition(APCVD),analyzes the influence of temperature on constructure and refractive index of TiOx,the antireflection characteristics of TiOx deposited on polished wafers and textured wafers are dicussed,the optimal process is proposed. |
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| Keywords: | nanometer TiOx thin film atmospheric pressure chemical vapor deposition |
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