首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

In:Er:LiNbO3晶体生长及光损伤性能研究
引用本文:许士文,徐悟生,李宣东,徐玉恒.In:Er:LiNbO3晶体生长及光损伤性能研究[J].人工晶体学报,2004,33(3):301-304.
作者姓名:许士文  徐悟生  李宣东  徐玉恒
作者单位:哈尔滨工业大学电子科学与技术系,哈尔滨,150001;哈尔滨工业大学应用化学系,哈尔滨,150001
基金项目:国家 8 63项目 ( 863 2 0 0 1AA3 13 0 4),973项目 (G19990 3 3 0 )资助
摘    要:在LiNbO3晶体中掺入In2O3和Er2O3,利用提拉法生长了In:Er:LiNbO3晶体,获得了In和Er在晶体中的分凝系数.通过测试晶体的吸收光谱和抗光损伤能力,确定In:Er:LiNbO3晶体中In的掺杂阈值浓度为~3mol;,In(3mol;):Er:LiNbO3晶体的抗光损伤能力比Er:LiNbO3提高3个数量级以上.研究了In的掺入使Er:LiNbO3晶体的吸收边移动和抗光损伤能力提高的机理.

关 键 词:In:Er:LiNbO3  晶体生长  光损伤  阈值浓度  
文章编号:1000-985X(2004)03-0301-04

Growth and Photodamage Properties of In:Er:LiNbO3 Crystals
XU Shi-wen,XU Wu-sheng,LI Xuan-dong,XU Yu-heng.Growth and Photodamage Properties of In:Er:LiNbO3 Crystals[J].Journal of Synthetic Crystals,2004,33(3):301-304.
Authors:XU Shi-wen  XU Wu-sheng  LI Xuan-dong  XU Yu-heng
Institution:XU Shi-wen~1,XU Wu-sheng~1,LI Xuan-dong~2,XU Yu-heng~2
Abstract:
Keywords:In:Er:LiNbO_3  crystal growth  photodamage  threshold concentration
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《人工晶体学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号