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| 光学滤波片薄膜镀制工艺中的监控技术模拟分析 | |
| 引用本文： | 张荣君,谌达宇,等.光学滤波片薄膜镀制工艺中的监控技术模拟分析[J].红外与毫米波学报,2003,22(1):56-58. |
| 作者姓名： | 张荣君 谌达宇 |
| 作者单位： | 1. 复旦大学光科学与工程系,先进光子学材料与器件国家重点实验室,上海,200433;复旦汇成先进光电子器件联合实验室,上海,200433 2. 复旦汇成先进光电子器件联合实验室,上海,200433 3. 复旦大学光科学与工程系,先进光子学材料与器件国家重点实验室,上海,200433 |
| 基金项目： | 上海应用物理研究中心 (批准号 0 0JC14 0 2 9)，复旦大学 (批准号EX12 35 7)资助项目~~ |
| 摘 要： | 在窄带滤波器件的研制过程中，模拟分析了采用极值法对膜层厚度进行光学监控及其偏差对滤波器件光学特性的影响，并给出了一个4腔DWDM滤波片的理想工艺曲线以及模拟计算所得到光学特性的分布曲线，计算结果有利于指导高品质薄膜器件的研制，并研制出符合工业应用标准要求3腔和4腔的100GHz,200GHz的DWDM滤波片以及CWDM滤波片。 |
| 关 键 词： | 光学滤波片 镀制工艺 光通信 窄带通滤波器件 实时监控 模拟分析 膜层厚度 光学薄膜 |
| 收稿时间： | 2002/8/11 |
| 修稿时间： | 2002年8月11日 |
SIMULATION STUDY FOR OPTICAL FILTER THIN-FILM DEPOSITION MONITORING |
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| ZHANG Rong-Jun, CHEN Da-Yu ZHENG Yu-Xiang WU Yun-Hua LI Li ZHOU Peng CHEN Liang-Yao.SIMULATION STUDY FOR OPTICAL FILTER THIN-FILM DEPOSITION MONITORING[J].Journal of Infrared and Millimeter Waves,2003,22(1):56-58. | |
| Authors: | ZHANG Rong-Jun CHEN Da-Yu ZHENG Yu-Xiang WU Yun-Hua LI Li ZHOU Peng CHEN Liang-Yao |
| Abstract: | The simulation study of the filter's optical character affected by the In-situ optical monitoring the layer thickness and its deviation during deposition process for the optical narrow band-pass filter thin film was reported. Both of the ideal monitor trace and the simulation of optical parameters distributing curve of the 4-cavity DWDM filter were given. The simulation results are very useful in the practice of high quality optical filter thin film deposition. The filters are designed to meet specific 100GHz,200GHz DWDM and CWDM bandwidth requirements, and the three and four cavity narrow band-pass filters are produced for the industry application. |
| Keywords: | optical fiber communication narrow-bandpass filter in-situ monitoring simulation study |
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