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| 铁电液晶空间光调制器氢化非晶硅薄膜 p—i—n光敏层的研究 | |
| 引用本文： | 朱振才,秦伟芳.铁电液晶空间光调制器氢化非晶硅薄膜 p—i—n光敏层的研究[J].红外与毫米波学报,1996,15(1):18-22. |
| 作者姓名： | 朱振才 秦伟芳 |
| 摘 要： | 描述了氢化非晶硅／铁电液晶空间光调制器的结构和工作原理，并从器件的电学模型出发，着重讨论了整体器件对光敏层的特性要求，对ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜ｐ－ｉ－ｎ光敏层的制作和光电特性进行了研究。 |
| 关 键 词： | 光敏层 氢化非晶硅 铁电液晶 空间光调制器 |
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