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| 曝光时不同载具对光敏玻璃通孔工艺的影响 | |
| 引用本文： | 刘书利,叶刚,李奇哲,夏晨辉.曝光时不同载具对光敏玻璃通孔工艺的影响[J].中国集成电路,2023(8):65-69. |
| 作者姓名： | 刘书利 叶刚 李奇哲 夏晨辉 |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第五十八研究所 |
| 摘 要： | 基于光敏玻璃，采用紫外光曝光、热处理以及湿法刻蚀方法制备出玻璃通孔，研究了曝光过程中不同反射率载具对玻璃通孔工艺的影响，揭示了光敏玻璃曝光时的改性过程。实验结果表明，曝光量相同时，反射率高的载具有益于玻璃通孔的制备。 |
| 关 键 词： | 光敏玻璃 玻璃通孔 载具 改性过程 |