| 新型LIGA掩模板制造工艺研究 |
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| 引用本文： | 陈迪,朱军,雷蔚,王水,张大成,伊福廷. 新型LIGA掩模板制造工艺研究[J]. 中国物理 C, 2001, 25(Z1): 131-134 |
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| 作者姓名： | 陈迪 朱军 雷蔚 王水 张大成 伊福廷 |
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| 作者单位： | 陈迪（上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海,200030）;朱军（上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海,200030）;雷蔚（上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海,200030）;王水（上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海,200030）;张大成（北京大学徽电子所,北京,100871）;伊福廷（中国科学院高能物理研究所,北京,100039） |
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| 摘 要： | LIGA掩模板的制备是LIGA技术中的关键工艺.利用最近发展起来的硅感应耦合等离子体(ICP)深层刻蚀工艺开发出了新型LIGA掩模板.与其它类型的LIGA掩模板相比,该掩模板具有加工工艺简单、价格低廉等优点.利用该LIGA掩模板进行了LIGA技术的研究,得到了比较理想的结果.
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| 关 键 词： | LIGA掩模板 ICP深刻蚀 LIGA技术 |
Study on New Type LIGA Mnssk Fabrication Technique |
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