| 全息片质量对原子全息光刻图形影响的模拟研究 |
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| 引用本文： | 石建平,陈旭南,陈献忠,高洪涛,陈元培,秦涛. 全息片质量对原子全息光刻图形影响的模拟研究[J]. 微细加工技术, 2003, 0(3): 26-30 |
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| 作者姓名： | 石建平 陈旭南 陈献忠 高洪涛 陈元培 秦涛 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209 |
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| 基金项目： | 中国科学院创新基金资助项目(A2K0009) |
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| 摘 要： | 全息片质量是影响原子全息光刻再现图形质量的关键因素，然而其制作工艺复杂，工序繁多，质量难以控制，模拟研究有助于把握全息片制作工艺中的关键环节，提高全息片的质量。详细模拟了全息片的三个主要质量指标：刻透率、分辨力以及薄膜厚度对再现像质的影响，结果表明：刻透率控制在90％左右即可满足要求，分辨率应优于0．1μm，膜层应尽量均匀。
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| 关 键 词： | 全息片质量 原子全息光刻 刻透率 分辨力 薄膜厚度 原子波包 全息再现 |
| 文章编号： | 1003-8213(2003)03-0026-05 |
| 修稿时间： | 2003-04-28 |
Simulation Study on Influence of Hologram Quality on Reconstructed Pattern in AHL |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | atom hologram lithography(AHL) atomic wave reconstruct of the hologram |
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